Structure and magnetic properties of self-ion-implanted Fe and Ni films

材料科学 离子 凝聚态物理 核磁共振 纳米技术 物理 量子力学
作者
Yasuo Gondo,Keizô Aoyagi,Tsutomu Ishi,H. Kogure,Y. Suezawa
出处
期刊:Journal of Magnetism and Magnetic Materials [Elsevier]
卷期号:93: 43-46 被引量:2
标识
DOI:10.1016/0304-8853(91)90301-p
摘要

Abstract Investigations on the structural and magnetic properties of the self-ion-implanted Fe and Ni films were reported. In the present study, as the result of the self-ion-implantation, only the influence of the lattice disorder was examined. An enhancement of specific Faraday rotation of the Fe ion implanted Fe layer was found at low doses. It was also found at such low doses that the dose dependence of FMR, electrical resistance and the structure of the Ni ion implanted Ni films showed clearly the release of internal stress in the films.
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