化学气相沉积
等离子体增强化学气相沉积
燃烧化学气相沉积
钨
混合物理化学气相沉积
沉积（地质）
离子镀
材料科学
化学工程
等离子体处理
化学
无机化学
薄膜
纳米技术
等离子体
碳膜
冶金
地质学
物理
工程类
古生物学
量子力学
沉积物
标识
DOI：10.1002/9783527615858.ch3
摘要
This chapter contains sections titled: Introduction Precursors-Synthesis-Proptie Chemical Vapor Deposition (CVD) In Situ Catalysis of Tungsten Deposition Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition (LCVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Summary and Outlook
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI
不配.
彭于彦祖
薰硝壤
浅尝离白
个性的紫菜
yupaopao
ShowMaker
好困
pcr163
Cloud
iNk
Yziii
kento
元谷雪
爱静静
寻道图强
shinysparrow
乐乐乐乐乐乐
dxwy
都是
皖公网安备34019202002308
