The effects on heat and oxygen transport of different heat shield and sidewall insulation designs during continuous Czochralski silicon crystal growth

护盾 材料科学 氧气 直拉法 晶体生长 光电子学 复合材料 化学 结晶学 地质学 岩石学 有机化学
作者
Thi-Hoai-Thu Nguyen,Jyh-Chen Chen,Chun-Chung Chen
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier]
卷期号:641: 127762-127762 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2024.127762

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