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Microwave plasma: its characteristics and applications in thin film technology

等离子体 微波食品加热 薄膜 等离子体处理 材料科学 等离子体参数 各向同性 各向异性 原子物理学 纳米技术 物理 光学 量子力学
作者
J. Musil
出处
期刊：Vacuum [Elsevier]
日期：1986-01-01 卷期号：36 (1-3): 161-169 被引量：57
标识
DOI：10.1016/0042-207x(86)90292-7
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