Strain engineering of Janus ZrSSe and HfSSe monolayers and ZrSSe/HfSSe van der Waals heterostructure

单层 异质结 半导体 直接和间接带隙 材料科学 杰纳斯 带隙 应变工程 范德瓦尔斯力 化学气相沉积 凝聚态物理 纳米技术 化学物理 光电子学 化学 物理 有机化学 分子
作者
Saeed Ahmad,M. Idrees,Fawad Khan,Chương V. Nguyen,Iftikhar Ahmad,B. Amin
出处
期刊:Chemical Physics Letters [Elsevier]
卷期号:776: 138689-138689 被引量:12
标识
DOI:10.1016/j.cplett.2021.138689
摘要

We investigated the effects of biaxial strain on electronic structure of ZrS2, ZrSe2, HfS2, HfSe2, ZrSSe and HfSSe monolayers. Similar to ZrS2, ZrSe2, HfS2, HfSe2 monolayers, Janus ZrSSe and HfSSe monolayers are indirect bandgap semiconductors. Tensile strain of 6(8)% transform ZrSSe(HfSSe) monolayer to direct bandgap semiconductor. Based on the calculation of binding energies and interlayer distance staking-(c) is found to be the most stable configuration for ZrSSe/HfSSe vdW heterostructure. Unstrained ZrSSe/HfSSe vdW heterostructure in staking-(c) is a type-II indirect bandgap semiconductor. Valence and conduction band edges show that under tensile strain ZrSSe, HfSSe and ZrSSe/HfSSe vdW heterostructure are efficient photocatalysts.
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