Simplified description of microwave plasma discharge for chemical vapor deposition of diamond

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作者
Hideaki Yamada,Akiyoshi Chayahara,Yoshiaki Mokuno
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:101 (6) 被引量:53
标识
DOI:10.1063/1.2711811
摘要

A fluid model to prescribe microwave plasma is proposed. The conservation equations for electron are reduced to only one differential equation. Therefore, the computational cost is also reduced as small as possible. One may extend functions of existing program for vacuum field analysis to microwave plasma simulator by coupling this differential equation with Maxwell equations. While the model is quite simple, this model can prescribe distributions of electron temperature as well as the number density, whereas effects of inelastic collisions with ions and neutrals are taken into account. Test calculation is carried out in three dimensional system and well reproduces experimental observation and prediction obtained by other model.
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