Processes to enable hysteresis-free operation of ultrathin ALD Te p-channel field-effect transistors

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作者
Minjae Kim,Yongsu Lee,Kyuheon Kim,G. Pham,Kiyung Kim,J. Jun,Hae‐Won Lee,Seungha Yoon,Hyeon Jun Hwang,Myung M. Sung,Hyeon Jun Hwang
出处
期刊:Nanoscale horizons [The Royal Society of Chemistry]
标识
DOI:10.1039/d4nh00339j
摘要

Recently, tellurium (Te) has been proposed as a promising p-type material; however, even the state-of-the-art results couldn't overcome the critical roadblocks for its practical applications, such as large
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