Controllable Photo-degradability on Polyurethane from AB-Type Monomers

聚氨酯 单体 高分子化学 化学 高分子科学 化学工程 材料科学 有机化学 聚合物 工程类
作者
Johannes Reeb,Yibo Shen,Patrick Théato,Yosuke Akae
出处
期刊:Macromolecules [American Chemical Society]
标识
DOI:10.1021/acs.macromol.4c03108
摘要

A new photodegradable AB-type monomer (3-nitro,4-hydroxylmethyl benzoylazide) was developed for the synthesis of polyurethanes featuring a photodegradability, which could be finely controlled through copolymerization. Because of the o-nitrobenzyl alcohol framework on the monomer, the resulting polymer was decomposed by UV irradiation at 365 nm. Moreover, since the introduction of a nitro group on the AB-type monomer framework reduced the reactivity of the alcohol group and increased that of the isocyanate group, copolymerization with other monomers induced a certain preference of diad patterns, which would affect the photodegradability of polyurethanes. The results suggested the AB-type monomer protocol enables the synthesis of more precisely designed polyurethane structures than the conventional synthesis, i.e., by a polyaddition between diol and di-isocyanate.
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