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Atomic‐Level Reactive Sites for Semiconductor‐Based Photocatalytic CO2 Reduction

光催化 材料科学 半导体 催化作用 选择性 氧化还原 纳米技术 光化学 化学工程 光电子学 化学 有机化学 工程类 冶金
作者
Yanzhao Zhang,Bingquan Xia,Jingrun Ran,Kenneth Davey,Shi Zhang Qiao
出处
期刊:Advanced Energy Materials [Wiley]
卷期号:10 (9) 被引量:345
标识
DOI:10.1002/aenm.201903879
摘要

Abstract Photocatalytic CO 2 reduction is an effective means to generate renewable energy. It involves redox reactions, reduction of CO 2 and oxidation of water, that leads to the production of solar fuel. Significant research effort has therefore been made to develop inexpensive and practically sustainable semiconductor‐based photocatalysts. The exploration of atomic‐level active sites on the surface of semiconductors can result in an improved understanding of the mechanism of CO 2 photoreduction. This can be applied to the design and synthesis of efficient photocatalysts. In this review, atomic‐level reactive sites are classified into four types: vacancies, single atoms, surface functional groups, and frustrated Lewis pairs (FLPs). These different photocatalytic reactive sites are shown to have varied affinity to reactants, intermediates, and products. This changes pathways for CO 2 reduction and significantly impacts catalytic activity and selectivity. The design of a photocatalyst from an atomic‐level perspective can therefore be used to maximize atomic utilization efficiency and lead to a high selectivity. The prospects for fabrication of effective photocatalysts based on an in‐depth understanding are highlighted.
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