Formation of Self-Assembled Monolayers of Alkylphosphonic Acid on the Native Oxide Surface of SS316L

单层 膦酸盐 X射线光电子能谱 接触角 化学 自组装单层膜 氧化物 共价键 金属 傅里叶变换红外光谱 红外光谱学 氧化钛 氧化硅 覆盖层 化学工程 无机化学 光化学 有机化学 物理化学 工程类 氮化硅 生物化学
作者
Aparna Raman,Manish Dubey,I. Gouzman,Ellen S. Gawalt
出处
期刊:Langmuir [American Chemical Society]
卷期号:22 (15): 6469-6472 被引量:181
标识
DOI:10.1021/la060636p
摘要

Phosphonate−steel interactions have been industrially significant for decades, but details of the phosphonate−steel interface have not yet been characterized. Self-assembled monolayers of phosphonic acids were formed on stainless steel 316L by room-temperature solution deposition. The acids are covalently bound to the surface as phosphonates in a bidentate manner, as determined by diffuse reflectance Fourier transform infrared spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. Complete coverage of the surface is confirmed by contact angle measurement and atomic force microscopic imaging. This method of monolayer formation contrasts the requirement for heating and long reaction times found to be necessary to form phosphonate monolayers on other metal oxide substrates, such as titanium and silicon.

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