Investigation of ON-State Breakdown Mechanism in AlGaN/GaN HEMTs with AlGaN Back Barrier

材料科学 异质结 撞击电离 光电子学 接受者 晶体管 电场 电离 宽禁带半导体 散射 杂质 高电子迁移率晶体管 凝聚态物理 化学 电压 电气工程 离子 物理 光学 有机化学 工程类 量子力学
作者
Yuchen Li,Sen Huang,Xinhua Wang,Qimeng Jiang,Xinyu Liu
出处
期刊:Electronics [MDPI AG]
卷期号:11 (9): 1331-1331 被引量:6
标识
DOI:10.3390/electronics11091331
摘要

The temperature-dependent ON-state breakdown BVON loci of AlGaN/GaN high-electron-mobility transistors (HEMTs) with an AlGaN back barrier were investigated using the gate current extraction technique. The impact ionization of acceptor-like traps was revealed to be responsible for the ON-state breakdown in HEMTs as a 2D electron gas (2DEG) channel is marginally turned on. The characteristic electric field Ei of impact ionization was extracted, exhibiting a U-shaped temperature dependence from 40 to −30 ∘C, with minimum Ei occurring at −10 ∘C. The impurity scattering effect of acceptor-like traps in AlGaN/GaN heterostructures is suggested to be responsible for the negative temperature dependence of BVON and Ei below −10 ∘C.
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