极端紫外线
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光学（聚焦）
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作者
Marcus Ossiander,Maryna L. Meretska,Hana Kristin Hampel,Soon Wei Daniel Lim,N. Knefz,Thomas Jauk,Federico Capasso,Martin Schultze
标识
DOI：10.1364/flatoptics.2023.fth3g.3
摘要
Manipulating light in the extreme ultraviolet wavelength range is challenging due to a limited number of suitable optical materials. In this work, we demonstrate a silicon holey metalens to focus 50-nm wavelength light.
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(2025-6-4)
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