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Aggregation Control, Surface Passivation, and Optimization of Device Structure toward Near‐Infrared Perovskite Quantum‐Dot Light‐Emitting Diodes with an EQE up to 15.4%

材料科学 钙钛矿(结构) 量子点 光电子学 光致发光 电致发光 钝化 发光二极管 量子产额 量子效率 二极管 佩多:嘘 纳米技术 图层(电子) 化学工程 光学 荧光 物理 工程类
作者
Zong‐Liang Tseng,Lung‐Chien Chen,Li‐Wei Chao,Meng‐Ju Tsai,Dian Luo,Nurul Ridho Al Amin,Shun‐Wei Liu,Ken‐Tsung Wong
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:34 (18) 被引量:45
标识
DOI:10.1002/adma.202109785
摘要

In recent years, the performance of perovskite quantum dots (QDs) and QD-based light-emitting diodes (QLEDs) has improved greatly, with electroluminescence (EL) efficiency of green and red emission exceeding 20%. However, the development of perovskite near-infrared (NIR) QLEDs has reached stagnation, where the reported maximum EL efficiency is still below 6%, limiting their further applications. In this work, new NIR-emissive FAPbI3 QDs are developed by post-treating long alkyl-encapsulated QDs with 2-phenylethylammonium iodide (PEAI). The incorporation of PEAI reduces the QD surface defects for giving a high photoluminescence quantum yield up to 61.6%. The n-octane solution of PEAI-passivated FAPbI3 QDs is spin coated on top of the PEDOT:PSS-treated ITO electrode modified with a thermally crosslinked hole-transporting layer to give a full-coverage, smooth, and dense QD film. Incorporating with an effective electron-transporting material, CN-T2T, which has deep lowest unoccupied molecular orbital and good electron mobility, the optimal device with EL λmax at 772 nm achieves an external quantum efficiency up to 15.4% at a current density of 0.54 mA cm-2 (2.6 V), which is the highest efficiency ever reported for perovskite-based NIR QLEDs. This study provides a facile strategy to prepare high-quality perovskite QD films suitable for highly efficient NIR QLED applications.
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