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Defect Engineering of 2D Semiconductors for Dual Control of Emission and Carrier Polarity

材料科学 光致发光 掺杂剂 兴奋剂 极性(国际关系) 光电子学 整改 单层 三极管 半导体 载流子寿命 纳米技术 电气工程 生物 工程类 电压 遗传学 细胞
作者
Ying Chen,Huawei Liu,Guoliang Yu,Chao Ma,Zheyuan Xu,Jinding Zhang,Cheng Zhang,Mingxing Chen,Dong Li,Weihao Zheng,Ziyu Luo,Xin Yang,Kaihui Li,Chengdong Yao,Danliang Zhang,Boyi Xu,Jiali Yi,Yi Chen,Bo Li,Hongmei Zhang
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:36 (14): e2312425-e2312425 被引量:25
标识
DOI:10.1002/adma.202312425
摘要

2D transition metal dichalcogenides (TMDCs) are considered as promising materials in post-Moore technology. However, the low photoluminescence quantum yields (PLQY) and single carrier polarity due to the inevitable defects during material preparation are great obstacles to their practical applications. Here, an extraordinary defect engineering strategy is reported based on first-principles calculations and realize it experimentally on WS2 monolayers by doping with IIIA atoms. The doped samples with large sizes possess both giant PLQY enhancement and effective carrier polarity modulation. Surprisingly, the high PL emission maintained even after one year under ambient environment. Moreover, the constructed p-n homojunctions shows high rectification ratio (≈2200), ultrafast response times and excellent stability. Meanwhile, the doping strategy is universally applicable to other TMDCs and dopants. This smart defect engineering strategy not only provides a general scheme to eliminate the negative influence of defects, but also utilize them to achieve desired optoelectronic properties for multifunctional applications.
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