Influence of interfacial dislocations on hysteresis loops of ferroelectric films

铁电性 矫顽力 凝聚态物理 材料科学 磁滞 极化(电化学) 外延 复合材料 光电子学 电介质 化学 图层(电子) 物理 物理化学
作者
Yulan Li,Shenyang Hu,Samrat Choudhury,M. I. Baskes,Avadh Saxena,Turab Lookman,Q. X. Jia,Darrell G. Schlom,Long‐Qing Chen
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:104 (10) 被引量:47
标识
DOI:10.1063/1.3021354
摘要

We investigated the influence of dislocations, located at the interface of a ferroelectric film and its underlying substrate, on the ferroelectric hysteresis loop including the remanent polarization and coercive field using phase-field simulations. We considered epitaxial ferroelectric BaTiO3 films and found that the hysteresis loop is strongly dependent on the type and density of interfacial dislocations. The dislocations that stabilize multiple ferroelectric variants and domains reduce the coercive field, and consequently, the corresponding remanent polarization also decreases.

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