Consumables for the Chemical Mechanical Polishing (Cmp) of Dielectrics and Conductors

化学机械平面化 抛光 材料科学 消耗品 磨料 泥浆 电介质 溶解 复合材料 冶金 纳米技术 化学工程 光电子学 化学 工程类 物理化学
作者
Rahul Jairath,Mukesh Desai,Matt Stell,Robert Tolles,Debra Scherber-Brewer
出处
期刊:MRS Proceedings [Springer Nature]
卷期号:337 被引量:46
标识
DOI:10.1557/proc-337-121
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