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Modeling of polarization reversal-induced interface sheet charge in wurtzite-type AlScN/GaN heterostructures

纤锌矿晶体结构 铁电性 材料科学 异质结 压电 凝聚态物理 极化(电化学) 光电子学 化学 物理 电介质 复合材料 物理化学 冶金
作者
M. Yassine,A. Yassine,Akash Nair,Balasubramanian Sundarapandian,N. Afshar,Lutz Kirste,Simon Fichtner,O. Ambacher
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:135 (15) 被引量:18
标识
DOI:10.1063/5.0190885
摘要

In this work, the value and the polarity of the spontaneous and piezoelectric polarization have been investigated, as the use of two different reference structures for wurtzite-type group-III nitrides, namely, the zinc-blende and the layered-hexagonal crystal lattice, have resulted in different predictions. It was found that although the differences in value and polarity of the polarization for heterostructures such as wurtzite Al1−xScxN/GaN lead to similar interface sheet charges, a significant mismatch is observed when polarization reversal is considered. The interface sheet charge predicted before and after the polarization reversal in the wurtzite Al1−xScxN layer on GaN using the zinc-blende lattice as a reference predominantly shows a change in sign. When using the layered-hexagonal lattice as a reference, not only is the same polarity of the interface sheet charge maintained after polarization reversal, but it is even 30 times larger. In this case, the giant and positive spontaneous polarization values for metal-polar Al1−xScxN extracted from the ferroelectric switching, as well as the alignment of the piezoelectric polarization to it, were observed to be consistent with the predictions referenced to the layered-hexagonal lattice. Thus, it is concluded that the layered-hexagonal reference is not only more suitable for predicting the ferroelectric properties of wurtzite Al1−xScxN but should also be the correct reference when considering polarization reversal in heterostructures. If the significant increase in the interface sheet charge after polarization reversal is experimentally detected, it will allow the design and fabrication of novel devices for future high-frequency and power electronics applications.
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