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Structural and electrical properties of ultra-thin high-k ZrO2 film on nitride passivated Ge(100) prepared by PEALD

材料科学 X射线光电子能谱 钝化 椭圆偏振法 薄膜 退火（玻璃） 原子层沉积 光电子学 氮化物 表面粗糙度 分析化学（期刊） 图层（电子） 纳米技术 复合材料 化学工程 化学 工程类 色谱法
作者
Vijay S. Patil,Khushabu Agrawal,Anil G. Khairnar,B.J. Thibeault,Ashok M. Mahajan
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2016-09-17 卷期号：56: 277-281 被引量：19
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2016.08.025
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