Patterning and characterization of 2D photonic crystals fabricated by focused ion beam etching of multilayer membranes

材料科学 聚焦离子束 表征(材料科学) 蚀刻(微加工) 离子束 光电子学 光子晶体 离子 反应离子刻蚀 梁(结构) 纳米技术 光学 生物 物理 量子力学 图层(电子) 遗传学
作者
N. Paraire,Pascal Filloux,K Wang
出处
期刊:Nanotechnology [IOP Publishing]
卷期号:15 (3): 341-346 被引量:5
标识
DOI:10.1088/0957-4484/15/3/019
摘要

We report the modelling and characterization of 2D photonic crystals that we have successfully implemented using a well adapted technical process: focused ion beam etching of multilayer membranes. Devices have been dimensioned to operate as polarizing beam splitters at telecommunication wavelengths. Modelling the experimental observations has allowed us to characterize FIB etching performances and to propose further technological improvements.
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