Influence of deposition pressure on microstructure, mechanical and electrical properties of niobium thin films

微观结构 薄膜 材料科学 沉积(地质) 冶金 电阻率和电导率 复合材料 矿物学 纳米技术 化学 地质学 电气工程 古生物学 工程类 沉积物
作者
P. Nageswara Rao,Mukesh Kumar Swami,Amrit Ghosh,Ravindra Jangir,Sanjay Rai
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier]
卷期号:: 140503-140503
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2024.140503
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