Exploring the high carrier mobility of newly predicted SiSe2 monolayer

单层 电子迁移率 有效质量(弹簧-质量系统) 材料科学 带隙 半导体 直接和间接带隙 半金属 电子 导带 价带 凝聚态物理 光电子学 纳米技术 物理 量子力学
作者
Radha N Somaiya,Yogesh Sonvane,Sanjeev K. Gupta
出处
期刊:Nucleation and Atmospheric Aerosols 被引量:1
标识
DOI:10.1063/5.0025339
摘要

The hexagonal SiSe2 monolayer is investigated to study carrier effective masses and carrier mobility. The monolayer is a semiconductor with a band gap of 0.46 eV with minima of conduction band at M and maxima of valence band between r-M indicating indirect nature of electronic band gap. The calculated value of carrier effective mass for electron is 0.116m0 and hole is 0.279m0. Moreover, the SiSe2 monolayer has a much higher electron mobility of 3.87x104 cm2V-1sec-1 when compared with MoS2 monolayer. These findings reveal SiSe2 a potential candidate for future electronics and nano-electronics.
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