Chemical Vapor Deposition Mechanism of Graphene-Encapsulated Au Nanoparticle Heterostructures and Their Plasmonics

材料科学 石墨烯 化学气相沉积 纳米颗粒 异质结 纳米技术 纳米结构 等离子体子 化学工程 光电子学 工程类
作者
Heguang Liu,Decai Ouyang,Jing Wang,Chao Lei,Wenwu Shi,Todd Gilliam,Jianxi Liu,Yuan Li,Nitin Chopra
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:13 (48): 58134-58143 被引量:2
标识
DOI:10.1021/acsami.1c16608
摘要

Direct encapsulation of graphene shells on noble metal nanoparticles via chemical vapor deposition (CVD) has been recently reported as a unique way to design and fabricate new plasmonic heterostructures. But currently, the fundamental nature of the growth mechanism of graphene layers on metal nanostructures is still unknown. Herein, we report a systematic investigation on the CVD growth of graphene-encapsulated Au nanoparticles (Au@G) by combining an experimental parameter study and theoretical modeling. We studied the effect of growth temperature, duration, hydrocarbon precursor concentration, and extent of reducing (H2) environment on the morphology of the products. In addition, the influence of plasma oxidation conditions for the surface oxidation of gold nanoparticles on the graphene shell growth is evaluated in combination with thermodynamic calculations. We find that these parameters critically aid in the evolution of graphene shells around gold nanoparticles and allow for controlling shell thickness, graphene shell quality and morphology, and hybrid nanoparticle diameter. An optimized condition including the growth temperature of ∼675 °C, duration of 30 min, and xylene feed rate of ∼10 mL/h with 10% H2/Ar carrier gas was finally obtained for the best morphology evolution. We further performed finite-element analysis (FEA) simulations to understand the equivalent von Mises stress distribution and discrete dipolar approximation (DDA) calculation to reveal the optical properties of such new core-shell heterostructures. This study brings new insight to the nature of CVD mechanism of Au@G and might help guiding their controlled growth and future design and application in plasmonic applications.
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