Modeling and Understanding of Rear Junction Double-Side Passivated Contact Solar Cells with Selective Area TOPCon on Front

材料科学 钝化 物理 计算机科学 拓扑(电路) 图层(电子) 电气工程 纳米技术 工程类
作者
Ying-Yuan Huang,Aditi Jain,Wookjin Choi,Keeya Madani,Young‐Woo Ok,A. Rohatgi
出处
期刊:Photovoltaic Specialists Conference 卷期号:: 1971-1976 被引量:6
标识
DOI:10.1109/pvsc43889.2021.9518628
摘要

Device modeling is performed to propose > 25% efficient industry-compatible rear junction double-side passivated contacts solar cell structure with full area p-TOPCon on the rear and selective area n-TOPCon under the front grid pattern (selective TOPCon). This design enables the use of thicker TOPCon (>100nm) on the front for traditional screen-printed contacts without incurring metal-induced damage, high parasitic absorption loss, and compromise in lateral transport or carrier collection on the front. Rear junction design with appropriate bulk lifetime and resistivity combination eliminate the need for heavy doping in the front field region because carriers can flow through the bulk Si without appreciable FF loss. High V OC is maintained because high-quality Si surface passivation in the field region by Al 2 O 3 /SiN gives J 0 comparable to the TOPCon. Our device modeling specifies the practically achievable properties and parameters for each region, including full area rear p-TOPCon, selective area front n-TOPCon, bulk and contacts, to achieve 25.4% efficiency screen-printed bifacial rear junction selective TOPCon cells.
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