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1064 nm半导体可饱和吸收镜的特性
材料科学
作者
张秋月 Zhang Qiuyue,
林楠 Lin Nan,
Ting Huang,
刘素平 Liu Suping,
马骁宇 Ma Xiaoyu,
熊聪 Xiong Cong,
仲莉 Zhong Li,
张志刚 Zhang Zhigang
出处
期刊:Guangxue xuebao
[Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics]
日期:2023-01-01
卷期号:43 (22): 2214001-2214001
链接
opticsjournal.net
doi.org
标识
DOI:10.3788/aos230981
摘要
为了提高应用于光纤激光器的多量子阱半导体可饱和吸收镜(SESAM)的特性参数,对其结构进行优化,模拟分析了不同量子阱周期数对器件电场分布、调制深度及反射光谱等参数的影响,结果表明,SESAM中吸收层量子阱周期数越大,SESAM在1064 nm处的反射率越低,调制深度越高,在低反射率处的带宽越窄,可饱和吸收镜对生长误差的容忍度也越小。利用金属有机化合物气相沉积(MOCVD)方法对3种量子阱周期数结构的SESAM进行外延生长,通过非线性测试及锁模实验对3种结构的样品进行测量与表征,结果表明,3种结构的SESAM均实现了自启动锁模,其稳定锁模的泵浦区间为150~200 mW。采用泵浦探测技术对15个量子阱周期的SESAM进行动态响应测试,其响应恢复时间为5 ps。
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