材料科学
镓
铟
原子层沉积
图层（电子）
锌
薄膜晶体管
光电子学
沉积（地质）
晶体管
薄膜
纳米技术
冶金
电气工程
电压
古生物学
工程类
沉积物
生物
作者
Sang‐Joon Park,Se-Ryong Park,Jong Mu Na,Woo-Seok Jeon,Youngjin Kang,Sukhun Ham,Yong‐Hoon Kim,Yung-Bin Chung,Tae‐Jun Ha
摘要
Atomic-layer deposition (ALD) is considered a promising method for the fabrication of high-quality indium–gallium–zinc oxide (IGZO) films because of its excellent film conformity and ability to suppress impurities. However, the...
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI
不配.
Henry
有人
个性的紫菜
Leonardi
iNk
8R60d8
Singularity
肯德鸭
浅尝离白
寻道图强
itsserene
yufanhui
pcr163
LY
乐乐乐乐乐乐
咖啡豆
HEIKU
tuanheqi
Estrella
皖公网安备34019202002308
