Direct measurement of strain effects on magnetic and electrical properties of epitaxial SrRuO3 thin films

邻接 材料科学 薄膜 外延 居里温度 凝聚态物理 磁矩 晶格常数 铁磁性 结晶学 衍射 纳米技术 化学 光学 图层(电子) 有机化学 物理
作者
Q. Gan,R. A. Rao,Chang‐Beom Eom,J. L. Garrett,Seongkwan Mark Lee
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:72 (8): 978-980 被引量:300
标识
DOI:10.1063/1.120603
摘要

By lifting an epitaxial thin film off its growth substrate, we directly and quantitatively demonstrate how elastic strain can alter the magnetic and electrical properties of single-domain epitaxial SrRuO3 thin films (1000 Å thick) on vicinal (001) SrTiO3 substrates. Free-standing films were then obtained by selective chemical etching of the SrTiO3. X-ray diffraction analysis shows that the free-standing films are strain free, whereas the original as-grown films on SrTiO3 substrates are strained due to the lattice mismatch at the growth interface. Relaxation of the lattice strain resulted in a 10 K increase in the Curie temperature to 160 K, and a 20% increase in the saturation magnetic moment to 1.45 μB/Ru atom. Both values for the free-standing films are the same as that of the bulk single crystals. Our results provide direct evidence of the crucial role of the strain effect in determining the properties of the technologically important perovskite epitaxial thin films.
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