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Nitrogen Dopants in Carbon Nanomaterials: Defects or a New Opportunity?

掺杂剂 石墨烯 富勒烯 材料科学 纳米技术 纳米材料 碳纳米管 基面 表面改性 碳纤维 兴奋剂 化学工程 化学 复合材料 光电子学 工程类 复合数 有机化学 结晶学
作者
Won Jun Lee,Joonwon Lim,Sang Ouk Kim
出处
期刊:Small methods [Wiley]
卷期号:1 (1-2) 被引量:249
标识
DOI:10.1002/smtd.201600014
摘要

Substitutional N‐doping of carbon nanomaterials refers to the chemical functionalization method that replaces a part of the carbon atoms in fullerene, carbon nanotubes, or graphene by nitrogen. N‐doping has attracted a tremendous amount of research attention for their unique possibilities, spanning from its ability to engineer various physiochemical properties of carbon nanomaterials in a stable manner with different dopant configurations. Many viable configurations of N‐dopants are accompanied by typical structural defects, while still preserving the structural symmetry in the basal graphitic plane. Here, the physicochemical features are highlighted and the exciting challenges of N‐dopants in carbon nanomaterials identified, with particular emphasis on the broad tunability of the material properties and relevant emerging applications.
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