An aluminum-based hybrid film photoresist for advanced lithography by molecular layer deposition

材料科学 光刻胶 图层(电子) 平版印刷术 沉积(地质) 纳米技术 原子层沉积 光电子学 复合材料 古生物学 沉积物 生物
作者
Xingkun Wang,Taoli Guo,Yiyang Shan,Ou Zhang,Hong Dong,Jincheng Liu,Feng Luo
出处
期刊:Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:12 (43): 17544-17553 被引量:2
标识
DOI:10.1039/d4tc02794a
摘要

Al-based dry photoresists synthesized by molecular layer deposition (MLD) have good resolution and excellent etch resistance, so their application in photolithography is very promising.
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