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An aluminum-based hybrid film photoresist for advanced lithography by molecular layer deposition
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作者
Xingkun Wang,
Taoli Guo,
Yiyang Shan,
Ou Zhang,
Hong Dong,
Jincheng Liu,
Feng Luo
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
卷期号：12 (43): 17544-17553
被引量：2
标识
DOI：10.1039/d4tc02794a
摘要
Al-based dry photoresists synthesized by molecular layer deposition (MLD) have good resolution and excellent etch resistance, so their application in photolithography is very promising.
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