On mass transport and surface morphology of sublimation grown 4H silicon carbide

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作者
D. Schulz,J. Doerschel,Marie‐Luise Lechner,H.‐J. Rost,D. Siche,J. Wollweber
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier]
卷期号:246 (1-2): 31-36 被引量:1
标识
DOI:10.1016/s0022-0248(02)01790-6
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