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Indium-free GZO thin films prepared using plasma-enhanced atomic layer deposition: toward thin film transistor application

材料科学 铟 原子层沉积 图层（电子） 薄膜 薄膜晶体管 光电子学 沉积（地质） 晶体管 等离子体 逐层 纳米技术 电气工程 生物 物理 工程类 古生物学 电压 量子力学 沉积物
作者
Chun-Yan Shi,Qi-Zhen Chen,Zhi-Xuan Zhang,Chia‐Hsun Hsu,Ming-Jie Zhao,Xiaoying Zhang,Peng Gao,Wan-Yu Wu,Dong‐Sing Wuu,Chien-Jung Huang,Shui‐Yang Lien,Wen‐Zhang Zhu
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2022-01-01 卷期号：10 (47): 17974-17982 被引量：6
标识
DOI：10.1039/d2tc03052g
摘要
Indium-free GZO thin films have been prepared using PEALD and employed as a channel layer of TFTs.
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