Electron and hole drift mobility in amorphous silicon

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作者
A. R. Moore
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:31 (11): 762-764 被引量:146
标识
DOI:10.1063/1.89539
摘要

Electron and hole drift mobility have been measured in n- and p-type amorphous Si Schottky-barrier solar cells. At room temperature μdn= (2–5) ×10−2 cm2/V sec and μdp= (5–6) ×10−4 cm2/V sec. Both mobilities are trap controlled with ΔE=0.19 eV for electrons and ΔE=0.35 eV for holes above 250 °K and ΔE=0.16 and 0.26 eV, respectively, below 250 °K. Majority-carrier lifetimes are estimated to be 1 μsec for electrons and 25 μsec for holes.
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