Performance-Enhanced 365 nm UV LEDs with Electrochemically Etched Nanoporous AlGaN Distributed Bragg Reflectors

纳米孔 材料科学 光电子学 发光二极管 蚀刻(微加工) 多孔性 图层(电子) 波长 纳米技术 复合材料
作者
Xingdong Lü,Jing Li,Kang Su,Chang Chun Ge,Zhicong Li,Teng Zhan,Guohong Wang,Jinmin Li
出处
期刊:Nanomaterials [MDPI AG]
卷期号:9 (6): 862-862 被引量:14
标识
DOI:10.3390/nano9060862
摘要

A 365-nm UV LED was fabricated based on embedded nanoporous AlGaN distributed Bragg reflectors (DBR) by electrochemical etching. The porous DBR had a reflectance of 93.5% at the central wavelength of 365 nm; this is the highest value of porous AlGaN DBRs below 370 nm which has been reported so far. An innovative two-step etching method with a SiO2 sidewall protection layer (SPL) was proposed to protect the n-AlGaN layer and active region of UV LED from being etched by the electrolyte. The DBR-LED with SPL showed 54.3% improvement of maximal external quantum efficiency (EQE) and 65.7% enhancement of optical power at 100 mA without any degeneration in electrical properties, compared with the un-etched standard LED sample. This work has paved the way for the application of electrically-pumped UV LEDs and VCSELs based on nanoporous AlGaN DBRs.
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