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Plasma-free metal-assisted chemical etching producing three-dimensional gallium nitride structures

材料科学 氮化镓 镓 光电子学 宽禁带半导体 氮化物 半导体 紫外线 蚀刻（微加工） 带隙 等离子体刻蚀 纳米技术 冶金 图层（电子）
作者
Yikai Liao,You Jin Kim,Shu An,Munho Kim
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2023-01-01 卷期号：11 (40): 13707-13713 被引量：1
标识
DOI：10.1039/d3tc02731g
摘要
Gallium nitride (GaN) is a third-generation wide bandgap semiconductor well-suited for power electronics and ultraviolet optoelectronics.
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