Tunnel junction-enabled monolithically integrated GaN micro-light emitting transistor

光电子学 材料科学 晶体管 氮化镓 电压 电气工程 纳米技术 工程类 图层(电子)
作者
Sheikh Ifatur Rahman,Mohammad Awwad,Chandan Joishi,Zane Jamal-Eddine,Brendan Gunning,Andrew Armstrong,Siddharth Rajan
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:124 (22) 被引量:3
标识
DOI:10.1063/5.0213300
摘要

GaN/InGaN microLEDs are a very promising technology for next-generation displays. Switching control transistors and their integration are key components in achieving high-performance, efficient displays. Monolithic integration of microLEDs with GaN switching devices provides an opportunity to control microLED output power with capacitive (voltage)-controlled rather than current-controlled schemes. This approach can greatly reduce system complexity for the driver circuit arrays while maintaining device opto-electronic performance. In this work, we demonstrate a 3-terminal GaN micro-light emitting transistor that combines a GaN/InGaN blue tunneling-based microLED with a GaN n-channel FET. The integrated device exhibits excellent gate control, drain current control, and optical emission control. This work provides a promising pathway for future monolithic integration of GaN FETs with microLED to enable fast switching, high-efficiency microLED display and communication systems.
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