XPS Study of Highly Sulfonated Polyaniline

X射线光电子能谱 聚苯胺 热稳定性 氧化态 分析化学(期刊) 化学状态 化学 材料科学 聚合物 金属 物理 有机化学 核磁共振 聚合
作者
Xiaolin Wei,Mats Fahlman,A. J. Epstein
出处
期刊:Macromolecules [American Chemical Society]
卷期号:32 (9): 3114-3117 被引量:210
标识
DOI:10.1021/ma981386p
摘要

Highly sulfonated polyaniline prepared via a synthetic scheme using leucoemeralding base (LEB−SPAN) has been studied using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). A sulfonation level (S/N ratio) as high as 0.80 ± 0.10 has been revealed in XPS analysis, agreeing well with the element chemical analysis results (∼0.78). This contrasts to an S/N ratio of 0.50 for SPAN made via the earlier reported synthetic method. The detailed S 2p and N 1s peak analyses both show that the oxidation level is ∼50%, implying a better thermal stability of emeraldine oxidation state over those of leucoemeraldine and pernigraniline oxidation states. These XPS analysis results are supported by UV−vis and FT-IR analysis results. The method of resolving 2p3/2 and 2p1/2 peaks in the S 2p spectrum is discussed.
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