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Adsorption dynamics and the effect of temperature of fluoride at alumina-solution interface

吸附 氟化物 材料科学 接口(物质) 动力学(音乐) 化学工程 无机化学 化学 物理化学 工程类 物理 吉布斯等温线 声学
作者
G. Karthikeyan,A. Shunmuga Sundarraj,S. Meenakshi,K. P. Elango
出处
期刊:CERN European Organization for Nuclear Research - Zenodo 被引量:5
标识
DOI:10.5281/zenodo.5833384
摘要

The defluoridation efficiency of the commercially available grades of activated alumina were determined. The various factors which influence the defluoridation efficiency of the material were studied. There was a marked dependence of pH on the defluoridating capacity. The adsorption of fluoride ions on activated alumina was studied in the temperature range of 303-333 K by the hatch equilibration method. The experimental adsorption data fitted well to the Langmuir isotherm indicating that the forces of adsorption are governed mainly by chemisorption. The equilibrium parameters and activation parameters were calculated and reported. The results indicate that the adsorption process is endothermic and occurs spontaneously which substantiate the proposed mechanism for the adsorption of fluoride at the alumina-solution interface.

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