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Novel CeO2@MOF and its derived abrasives for rapid chemical mechanical polishing

材料科学 抛光 化学机械平面化 冶金 复合材料
作者
Shaoping Li,Kai Feng,Huidong Cui,Zhaobo He,Ruan Chi,Yue Luo
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier]
卷期号:188: 109182-109182 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2024.109182
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