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Effects of bias voltage on microstructure and properties of vanadium dioxide films deposited by DC magnetron sputtering

微观结构 材料科学 二氧化二钒 溅射沉积 钒 偏压 溅射 腔磁控管 高功率脉冲磁控溅射 光电子学 电压 化学工程 冶金 薄膜 纳米技术 电气工程 工程类
作者
Chuandong Zhang,Jie Bai,Yuanjun Guo,Qiang Hu,Lei Liu,Hong Liu,Lang Hu,Yongneng Xiao,Qiang Wang,Zhenhuai Yang
出处
期刊：CrystEngComm [The Royal Society of Chemistry]
日期：2025-01-01 卷期号：27 (8): 1111-1119 被引量：1
标识
DOI：10.1039/d4ce01211a
摘要
Applying an appropriate bias voltage during direct current magnetron sputtering can optimize the valence state, facilitate phase transition, and improve the performance of deposited VO 2 film.
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