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作者
Chuandong Zhang,Jie Bai,Yuanjun Guo,Qiang Hu,Lei Liu,Hong Liu,Lang Hu,Yongneng Xiao,Qiang Wang,Zhenhuai Yang
出处
期刊：CrystEngComm
[The Royal Society of Chemistry]
日期：2025-01-01
卷期号：27 (8): 1111-1119
被引量：1
摘要
Applying an appropriate bias voltage during direct current magnetron sputtering can optimize the valence state, facilitate phase transition, and improve the performance of deposited VO 2 film.
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