Enhanced Field-Assisted Passivation and Optical Properties Improvement of PECVD Deposited SiNx:H Thin Film

钝化 等离子体增强化学气相沉积 材料科学 薄膜 光电子学 纳米技术 图层(电子)
作者
Alamgeer,Hasnain Yousuf,Muhammad Quddamah Khokhar,Rafi Ur Rahman,Chu Mengmeng,Maha Nur Aida,Polgampola Chamani Madara,Jaljalalul Abedin Jony,Seokjin Jang,Junhan Bae,Salisu Mohammed,Sangheon Park,Junsin Yi
出处
期刊:Optical Materials [Elsevier]
卷期号:162: 116885-116885
标识
DOI:10.1016/j.optmat.2025.116885

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