Efficient stress relief in GaN heteroepitaxy on Si(111) using low-temperature AlN interlayers

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作者
A. Reiher,J. Bläsing,A. Dadgar,A. Diez,A. Krost
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier]
卷期号:248: 563-567 被引量:116
标识
DOI:10.1016/s0022-0248(02)01880-8
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