Distribution of basal plane dislocations in 4-degree off-axis 4H-SiC single crystals

基面 平面(几何) 材料科学 分布(数学) 结晶学 凝聚态物理 学位(音乐) 位错 单晶 几何学 化学 复合材料 物理 数学 数学分析 声学
作者
Sheng'ou Lu,Binjie Xu,Yazhe Wang,Jie Chen,Wei Hang,Rong Wang,Julong Yuan,Xiaodong Pi,Deren Yang,Xue‐Feng Han
出处
期刊:CrystEngComm [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:26 (16): 2143-2154 被引量:1
标识
DOI:10.1039/d4ce00055b
摘要

The basal plane slip model in 4H-SiC was developed to investigate the effects of off-axis angles on total resolved shear stress. The results showed that the TRSS changed from 6-fold to 4-fold symmetry with the increasing off-axis angles.
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