Critical thickness of ultrathin ferroelectric BaTiO3 films

铁电性 材料科学 脉冲激光沉积 极化(电化学) 凝聚态物理 异质结 电子衍射 电容器 磁滞 电场 光电子学 薄膜 衍射 光学 电介质 纳米技术 电压 化学 物理化学 物理 量子力学
作者
Y. S. Kim,Dong Hoe Kim,J. D. Kim,Young Jun Chang,Tae Won Noh,Juwon Kong,K. Char,Y. D. Park,Sang Don Bu,J.-G. Yoon,J.-S. Chung
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:86 (10) 被引量:219
标识
DOI:10.1063/1.1880443
摘要

To investigate the critical thickness of ferroelectric BaTiO3 (BTO) films, we fabricated fully strained SrRuO3∕BTO∕SrRuO3 heterostructures on SrTiO3 substrates by pulsed laser deposition with in situ reflection high-energy electron diffraction. We varied the BTO layer thickness from 3to30nm. By fabricating 10×10μm2 capacitors, we could observe polarization versus electric-field hysteresis loops, which demonstrate the existence of ferroelectricity in BTO layers thicker than 5nm. This observation provides an experimental upper bound of 5nm for the critical thickness. The BTO thickness-dependent scaling of the remanent polarization agrees with the predictions of recent first-principle simulations [J. Junquera and P. Ghosez, Nature 422, 506 (2003)].
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