扫描电子显微镜
硅
聚焦离子束
材料科学
光电子学
纳米技术
电子工程
离子
复合材料
工程类
化学
有机化学
作者
H. Bender,C. Drijbooms,Aleksandar Radisic,David G. Seiler,Alain C. Diebold,Robert McDonald,Amal Chabli,Erik M. Secula
出处
期刊:Nucleation and Atmospheric Aerosols
日期:2011-01-01
被引量:6
摘要
Different milling strategies for the structural analysis of through‐silicon‐vias with a dualbeam focused ion beam/scanning electron microscope are discussed. Particular attention is given to methods to reduce the analysis time and to minimize the curtaining artifacts.
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