Large-Scale Metasurfaces Made by an Exposed Resist

抵抗 光学 制作 材料科学 光子学 光电子学 相(物质) 纳米技术 物理 量子力学 医学 病理 替代医学 图层(电子)
作者
Daniel Andrén,Jade Martínez-Llinàs,Philippe Tassin,Mikael Käll,Ruggero Verre
出处
期刊:ACS Photonics [American Chemical Society]
卷期号:7 (4): 885-892 被引量:22
标识
DOI:10.1021/acsphotonics.9b01809
摘要

Phase-gradient metasurfaces have the potential to revolutionize photonics by offering ultrathin alternatives to a wide range of common optical elements, including bulky refractive optics, waveplates, and axicons. However, the fabrication of state-of-the-art metasurfaces typically involves several expensive, time-consuming, and potentially hazardous processing steps. To address this limitation, a facile methodology to construct phase-gradient metasurfaces from an exposed standard electron beam resist is developed. The method dramatically cuts the required processing time and cost as well as reduces safety hazards. The advantages of the method are demonstrated by constructing high-performance flat optics based on the Pancharatnam-Berry phase gradient concept for the entire visible wavelength range. Manufactured devices include macroscopic (1 cm diameter) positive lenses, gratings exhibiting anomalous reflection, and cylindrical metalenses on flexible plastic substrates.
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