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Study on material removal mechanisms in electrochemical etching-enhanced polishing of GaN

抛光 材料科学 蚀刻（微加工） 图层（电子） 光致发光 电化学 化学机械平面化 表面粗糙度 表面光洁度 复合材料 纳米技术 化学工程 光电子学 电极 化学 物理化学 工程类
作者
Linfeng Zhang,Dong Lu,Hui Deng
出处
期刊：Journal of Manufacturing Processes [Elsevier]
日期：2021-12-06 卷期号：73: 903-913 被引量：15
标识
DOI：10.1016/j.jmapro.2021.11.059
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