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Tungsten passivation layer (WO3) formation mechanisms during chemical mechanical planarization in the presence of oxidizers

化学机械平面化 钝化 钨 溶解 X射线光电子能谱 激进的 化学 图层（电子） 抛光 腐蚀 碳化钨 氧化物 材料科学 无机化学 化学工程 冶金 纳米技术 物理化学 有机化学 工程类
作者
Maneesh Kumar Poddar,Palwasha Jalalzai,Samrina Sahir,Nagendra Prasad Yerriboina,Tae‐Gon Kim,Jin-Goo Park
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier BV]
日期：2020-09-15 卷期号：537: 147862-147862 被引量：24
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2020.147862
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