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Inductively coupled plasma etching of SiO2 layers for planar lightwave circuits

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作者

Suntae Jung,Hyung-Seung Song,Dong-Su Kim,Hyoun‐Soo Kim

出处

期刊：Thin Solid Films [Elsevier]
日期：1999-03-01 卷期号：341 (1-2): 188-191 被引量：20

标识

DOI：10.1016/s0040-6090(98)01553-3

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