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Inductively coupled plasma etching of SiO2 layers for planar lightwave circuits

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作者
Suntae Jung,Hyung-Seung Song,Dong-Su Kim,Hyoun‐Soo Kim
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier]
日期：1999-03-01 卷期号：341 (1-2): 188-191 被引量：19
标识
DOI：10.1016/s0040-6090(98)01553-3
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