Conductive bridging RAM (CBRAM): an emerging non-volatile memory technology scalable to sub 20nm

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作者
M. Kund,G. Beitel,C. U. Pinnow,T. Röhr,J. Schumann,R. Symanczyk,K.‐D. Ufert,Georg Müller
出处
期刊:International Electron Devices Meeting 被引量:156
标识
DOI:10.1109/iedm.2005.1609463
摘要

We report on the electrical characterisation of nanoscale conductive bridging memory cells, composed of a thin solid state electrolyte layer sandwiched between an oxidizable anode and an inert cathode. Low power resistive switching operation, the large scalability potential including multi-level-capability (MLC) and the investigated reliability aspects, like retention at elevated temperature, operating temperature and endurance, make CBRAM a very promising non-volatile emerging memory technology
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