材料科学
纳米光子学
六方氮化硼
等离子体刻蚀
纳米光刻
退火（玻璃）
等离子体
制作
纳米技术
光电子学
光子
氮化硼
蚀刻（微加工）
氮化物
石墨烯
光学
物理
复合材料
病理
替代医学
图层（电子）
医学
量子力学
作者
Zai‐Quan Xu,Christopher Elbadawi,Toan Trong Tran,Mehran Kianinia,Xiuling Li,Daobin Liu,Timothy B. Hoffman,Minh Nguyen,Sejeong Kim,James H. Edgar,Xiaojun Wu,Li Song,Sajid Ali,Michael J. Ford,Milos Toth,Igor Aharonovich
出处
期刊：Nanoscale
[The Royal Society of Chemistry]
日期：2018-01-01
卷期号：10 (17): 7957-7965
被引量：118
摘要
Ar plasma etching and annealing are highly robust in generating oxygen related single photon emitters in hBN.
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不配.
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