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Enhancement of photoelectric properties of Cu2ZnSnS4 thin films by electronic excitations induced by swift heavy ions

辐照 快速重离子 拉曼光谱 材料科学 薄膜 光敏性 微晶 离子 分析化学(期刊) 结晶度 带隙 通量 光电子学 化学 光学 纳米技术 冶金 复合材料 物理 有机化学 色谱法 核物理学
作者
M. Sampath,T. Logu,P. Mathan Kumar,K. Asokan,K. Sethuraman
出处
期刊:Materials Science And Engineering: B [Elsevier]
卷期号:280: 115683-115683 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.mseb.2022.115683
摘要

• AFM and SEM images confirm the morphological changes in the irradiated sample. • Micro-Raman spectra reveal the presence of lattice defects in the Au irradiated sample. • UV–Vis results reveal a red-shift in absorbance spectra after O irradiation. • Maximum photosensitivity is found to be 62% for O irradiated thin films. The structural, optical, and current–voltage characteristics including photosensitivity of copper zinc tin sulphide (Cu 2 ZnSnS 4 ) thin films were modified significantly by the electronic excitations. These excitations were induced by swift heavy ion (SHI) beams of 100 –120 MeV of O, Ag, and Au. X-ray diffraction patterns confirm that the pristine and irradiated films crystallize in kesterite structure and the crystallite size increases after O, and Ag ion irradiations compared to Au ions. The micro-Raman spectra reveal the presence of lattice defects in the Au irradiated sample. The analysis shows that the crystallinity of the Cu 2 ZnSnS 4 thin film increases with O ion irradiation indicating that the density of defect states decreases after SHI irradiation. The maximum photosensitivity is found to be 62% for O irradiated thin films compared to other ion beams due to the reduction in the band gap.
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